Examen de la medición mediante patrones de difracción de incidencia rasante de rayos X duros de redes aisladas para una resolución 3D de 1 nm

La scatterometría se ha puesto en uso práctico para la medición de microestructuras de integración ultra a gran escala debido a su alta compatibilidad de procesos. Por otro lado, su aplicación ha estado limitada a estructuras periódicas. Al aplicar este método a sistemas aislados y utilizando rayos X duros, puede ser posible exceder significativamente una resolución de 10 nm, que es el límite de la medición óptica convencional. Demostramos la viabilidad de esta medición mediante cálculos rigurosos. Para este propósito, medimos la intensidad de la reflexión especular y el ruido en la línea de haz de radiación de rayos X duros. El objetivo virtual es una red de 15 nm de ancho. La relación señal-ruido es lo suficientemente baja para una red con un periodo de 25 nm, pero 10 veces más alta para una red aislada.