El desarrollo de dispositivos de memoria resistiva escalables, de bajo consumo y alta densidad es crucial para las arquitecturas de computación de próxima generación, particularmente en aplicaciones neuromórficas. Aquí, informamos sobre películas delgadas de bilayer de SnO2/SnS2 procesadas por solución como funcional...
Tang et al. (Thu,) estudiaron esta cuestión.
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