Preparación de películas delgadas de óxido de indio y estaño altamente transparentes y de baja resistividad mediante sputtering de baja potencia en corriente continua

Puntos clave

• Se prepararon con éxito películas delgadas de óxido de indio y estaño altamente transparentes utilizando sputtering de baja potencia en corriente continua, logrando una claridad óptica significativa.
• La resistividad de las películas fue notablemente baja, medida en 3.95 x 10^-4 ohm-cm, lo que mejora su utilidad para aplicaciones electrónicas.
• Se empleó la técnica de sputtering de baja potencia en corriente continua para crear las películas delgadas, asegurando propiedades deseables como baja resistividad y alta transparencia.
• Estos hallazgos pueden permitir avances en dispositivos y componentes electrónicos que utilizan materiales de óxido de indio y estaño en diversas aplicaciones.