En este estudio, se emplearon cálculos de primeros principios para investigar sistemáticamente la adsorción de Cl− en superficies Al2Cu(110), interfaces limpias Al(111)/Al2Cu(110) y interfaces dopadas con Fe/Si, así como la influencia de la deformación en la estructura electrónica interfacial y la actividad de corrosión. Cuando Cl− se adsorbe en sitios de Al, la unión entre Cl y Al exhibe características iónicas fuertes con transferencia localizada de carga, mientras que la adsorción en sitios de Cu se caracteriza por interacciones más deslocalizadas y covalentes. Esta competencia determina la estabilidad dependiente del sitio de la adsorción. A través de una sinergia geométrica-electrónica, la interfaz funciona tanto como "zona de enriquecimiento de Cl−" como "fuente de actividad", favoreciendo significativamente la adsorción de Cl− en sitios anódicos de alta actividad como Al-hueco y Al-puente. Por el contrario, los sitios Cu-top mantienen una función de trabajo alta y una naturaleza catódica inerte, facilitando la formación de acoplamientos micro-galvánicos eficientes a través de la interfaz. Además, el dopaje con Fe/Si modula aún más el paisaje electrónico interfacial: Si actúa como un elemento de fortalecimiento eficaz debido a su baja energía de sustitución y alta estabilidad, mientras que Fe forma principalmente una solución sólida en el lado Al, lo que potencialmente introduce riesgos de corrosión galvánica. El análisis de estrés indica que la deformación a tracción mejora sistemáticamente la actividad superficial al reducir la función de trabajo, mientras que la deformación compresiva influye no monótonamente en la corrosión mediante un mecanismo en tres etapas que involucra la "densificación-agrietamiento-relajación plástica" de la película pasiva. Estos hallazgos esclarecen los orígenes atomísticos del inicio de corrosión en interfaces compuestas Cu–Al y proveen una base teórica para mejorar la resistencia a la corrosión mediante el diseño de aleaciones y la ingeniería de deformaciones.
Li et al. (Fri,) estudiaron esta cuestión.