Muestreo para forma a partir del enfoque en microscopía óptica

La forma a partir del enfoque (SFF), que se basa en el enfoque de la imagen como una pista dentro de imágenes secuenciadas, representa una técnica pasiva para recuperar formas de objetos en escenas. Aunque se han propuesto numerosos métodos recientemente, se ha prestado menos atención a factores particulares que los afectan. En cuanto a SFF, uno de los factores críticos que impacta la aplicación del sistema es el número total de imágenes. Un gran conjunto de datos requiere una enorme cantidad de poder de cálculo, mientras que disminuir el número de imágenes hace que la reconstrucción de la forma sea rudimentaria y errónea. El número total de imágenes es inversamente proporcional a la distancia entre fotogramas o el tamaño del paso de muestreo. En este documento, se han formulado criterios de distancia entre fotogramas (o tamaño del paso de muestreo) para sistemas SFF. En particular, el enfoque del rayo de luz se aproxima mediante el uso de un haz gaussiano seguido de la formulación de una expresión de muestreo utilizando muestreo de Nyquist. Como consecuencia, también se obtiene una función de ajuste para las curvas de enfoque. Se realizan experimentos en objetos simulados y reales para validar los esquemas propuestos.