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Se investiga la alineación de niveles de energía en la interfaz de CH3NH3PbI3/cu phalocianina (CuPc) mediante espectroscopia de fotoelectrones de rayos X (XPS) y espectroscopia de fotoelectrones ultravioleta (UPS). XPS revela una flexión de banda hacia abajo de 0.3 eV en la película de CuPc. UPS valida este hallazgo y revela además una formación de dipolo interfacial despreciable, verificando la viabilidad de la alineación del nivel de vacío. El orbital molecular más alto ocupado de CuPc se encuentra más cerca del nivel de Fermi que el máximo de la banda de valencia de CH3NH3PbI3, facilitando la transferencia de huecos desde CH3NH3PbI3 a CuPc. Sin embargo, la posterior extracción de huecos de CuPc puede verse obstaculizada por la flexión de banda hacia abajo en la capa de CuPc.
Chen et al. (Vie,) estudiaron esta cuestión.
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