Alineación inducida por plasma de nanotubos de carbono

Se han cultivado películas uniformes de nanotubos de carbono bien alineados utilizando deposición química de vapor mejorada por plasma de microondas. Se muestra que los nanotubos se pueden cultivar en superficies contorneadas y alinearse en una dirección siempre perpendicular a la superficie del sustrato local. La alineación es inducida principalmente por el campo de auto-bias eléctrico impuesto sobre la superficie del sustrato desde el entorno del plasma. Se encontró que apagar la fuente de plasma efectivamente desactiva el mecanismo de alineación, lo que conduce a una transición suave entre los nanotubos rectos cultivados en plasma y los nanotubos “rizados” cultivados térmicamente. Los nanotubos crecen a una tasa sorprendentemente alta de ∼100 nm/s en nuestro proceso de plasma, lo que puede ser importante para la producción comercial a gran escala de nanotubos.