Key points are not available for this paper at this time.
पेरोव्स्काइट सौर कोशिकाओं ने साबित किया है कि वे ऐसे पासिवेशन सामग्री को पेश करके सेल की विशेषताओं को बढ़ाते हैं जो दोष गठन को दबाने में मदद करती हैं। इलेक्ट्रॉन ट्रांसपोर्ट परत और अवशोषण परत के बीच दोष स्थितियाँ इलेक्ट्रॉन निष्कাশन और कैरियर परिवहन क्षमताओं को कम कर देती हैं, जिससे उपकरण के प्रदर्शन और स्थिरता में महत्वपूर्ण कमी आती है, साथ ही गैर-किरणीय पुनः सम्मिलन की संभावना बढ़ जाती है। इस अध्ययन में ट्रांसपोर्ट परत और पेरोव्स्काइट अवशोषण परत के बीच एक अमीनो एसिड (L-Histidine) सेल्फ-assembled मोनोलायर सामग्री के उपयोग का प्रस्ताव दिया गया है। सतह विश्लेषण से पता चला कि L-Histidine को पेश करने से पेरोव्स्काइट फिल्म की सतह की एकरूपता और खुरदरापन दोनों में सुधार हुआ। X-ray फोटोelectron स्पेक्ट्रोस्कोपिक विश्लेषण ने अल्ट्रा-स्ट्रक्चरल ऑक्सीजन रिक्तियों में कमी और Ti में वृद्धि दिखाई।
Hsu इत्यादि (Sun,) ने इस प्रश्न का अध्ययन किया।