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सार सोडियम-आयन बैटरियां (SIBs) कम लागत और प्रचुर सोडियम संसाधनों के कारण बड़े पैमाने पर ऊर्जा भंडारण के लिए एक आशाजनक उम्मीदवार हैं। हालांकि, हार्ड कार्बन (HC) एनोड्स की सतह पर सोडियम डेंड्राइट्स का निर्माण चार्जिंग के दौरान पूर्ण कोशिकाओं के लिए सबसे कठिन चुनौती है, जिससे गंभीर प्रदर्शन बिगड़ना और सुरक्षा खतरों का सामना करना पड़ता है। यहां, एक मजबूत एडिटिव-इंड्यूस्ड बोरेट और फ्लोराइड-समृद्ध इंटरफेस का निर्माण किया गया है जो एथर-आधारित इलेक्ट्रोलाइट में सोडियम डिफ्लोरो(ऑक्सालाटो)बोरेट (NaDFOB) को एडिटिव के रूप में पेश करके SIBs के प्रदर्शन में गिरावट को कम करने के लिए किया गया है। NaDFOB इलेक्ट्रोलाइट-इलेक्ट्रोड इंटरफेसेस के पासविज़ेशन प्रक्रिया में भाग ले सकता है, DFOB - के प्राथमिक ऑक्सीकरण और पुनर्संशोधन के माध्यम से सोडियम डेंड्राइट के विकास को प्रभावी ढंग से रोकता है। इसके अतिरिक्त, इलेक्ट्रोलाइट अपघटन और संक्रमण धातु अणुओं का विसर्जन प्रभावी रूप से रोका जाता है। इसके लाभ से, FeMn-आधारित प्रुसीयन ब्लू (FeMnHCF) || HC पूर्ण सेल, जिसका नकारात्मक/सकारात्मक क्षमता अनुपात (N/P अनुपात) 1.09 है, 82.1% क्षमता बनाए रखता है, विशेष रूप से कम N/P अनुपात 0.96 के साथ सेल अभी भी 500 चक्रों के बाद 99.9% से अधिक स्थिर कूलॉम्बिक दक्षता प्रदर्शित करता है, NaDFOB को एडिटिव के रूप में उपयोग करके। एक व्यावहारिक प्रदर्शन के रूप में, डिज़ाइन किए गए 18650 पूर्ण सेल ने NaDFOB एडिटिव के साथ बढ़ी हुई साइक्लिंग स्थिरता प्रदर्शित की। निष्कर्ष डेंड्राइट-मुक्त SIBs के लिए एडिटिव-इंड्यूस्ड इनऑर्गेनिक-समृद्ध इंटरफेस परतों में अंतर्दृष्टि प्रदान करते हैं।
लियू एट अल। (बुध,) ने इस प्रश्न का अध्ययन किया।