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ऑप्टिकल पतली फिल्मों के अपवर्तनांक को नियंत्रित करना सामग्रियों के ऑप्टिकल गुणों में सुधार कर सकता है। हमने एक संयोजन जमा प्रणाली विकसित की है जो स्पटलिंग और इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण को अलग या संयुक्त रूप से कर सकती है। संयोजन जमा प्रणाली 1.26 से 1.47 के अपवर्तनांकों के साथ सिलिकॉन डाइऑक्साइड (SiO2) ऑप्टिकल फिल्में उत्पन्न कर सकती है। विकसित प्रणाली का उपयोग करते हुए, हमने SiO2 सब्सट्रेट पर SiO2 के 51 परतों के साथ एक मोनोमटेरियल मल्टीलेयर कोटिंग तैयार की, यानी, समान सामग्री। तैयार किए गए बैंडस्टॉप की तरंगदैर्ध्य डिजाइन की गई तरंगदैर्ध्य के साथ संगत थी। इसके अतिरिक्त, तैयार किए गए ऑप्टिकल फ़िल्टर का प्रकाश-छितरण तीव्रता अनुपात पारंपरिक फ़िल्टर के समान था।
ताजिमा एट अल। (सोम,) ने इस प्रश्न का अध्ययन किया।
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