लिथियम बैटरी अनुप्रयोग के लिए नाइट्रोजन-डोप्ड ग्रेफीन फिल्म्स का संश्लेषण

हम तरल पूर्ववर्ती आधारित रासायनिक वाष्प जमाव (CVD) तकनीक द्वारा नाइट्रोजन-डोप्ड ग्रेफीन परतों की नियंत्रित वृद्धि प्रदर्शित करते हैं। नाइट्रोजन-डोप्ड ग्रेफीन को सीधे Cu करंट कलेक्टर्स पर उगाया गया और इसके पुनरावर्ती Li-आयन इंटरकेलेशन गुणों का अध्ययन किया गया। N-डोप्ड ग्रेफीन की पुनरावर्ती डिस्चार्ज क्षमता लगभग शुद्ध ग्रेफीन की तुलना में दोगुनी है, जो N-डोपिंग के कारण उत्पन्न बड़ी संख्या में सतह दोषों के कारण है। सभी ग्रेफीन फिल्मों की पहचान रमन स्पेक्ट्रोस्कोपी, ट्रांसमिशन इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोपी, और एक्स-रे फोटोएमिशन स्पेक्ट्रोस्कोपी द्वारा की गई। सक्रिय इलेक्ट्रोड सामग्री का सीधे करंट कलेक्टर सब्सट्रेट्स पर बढ़ना इस प्रक्रिया को वर्तमान बैटरी निर्माण प्रौद्योगिकी में एक व्यावहारिक और कुशल प्रक्रिया बनाता है।