इयुनेट सेल टोपोलॉजी का प्रभाव एडिटिव निर्मित CoCrMo त्रैतीय आवधिक न्यूनतम सतह शीट लट्स पर तणाव लोडिंग प्रतिक्रियाएँ

यह अध्ययन दो भिन्न टोपोलॉजी - नियोवियस और शेन के IWP - वाली त्रैतीय आवधिक न्यूनतम सतह शीट लट्स के निर्माण से संबंधित है। इन सामग्रियों की संरचनात्मक विशेषताओं की जांच की गई, जिन्हें CoCrMo मिश्र धातु पाउडर का उपयोग करके लेजर पाउडर बेड फ्यूजन द्वारा तैयार किया गया था। सामग्रियों के तणाव गुण और विरूपण व्यवहार का मूल्यांकन प्रत्येक टोपोलॉजी के लिए यूनिट सेल के आकार (1, 2.5, और 5 मिमी) को बढ़ाकर किया गया। तणाव परीक्षण के परिणामों ने दिखाया कि दोनों टोपोलॉजी के लिए यील्ड स्ट्रेंथ और यंग मौड्यूल घटित हुए, और कि उनके विस्तार में यूनिट सेल के आकार के घटने के साथ वृद्धि हुई। हमने नियोवियस और IWP लट्स के यांत्रिक गुणों की तुलना की, जिनका यूनिट सेल का आकार समान था, और पाया कि पूर्व ने अधिक यील्ड स्ट्रेंथ, तणाव स्ट्रेंथ और विस्तार प्रदर्शित किया। इसके अलावा, नमूनों के तणाव विरूपण व्यवहार का विश्लेषण गिब्सन-ऐशबी विश्लेषणात्मक मॉडल का उपयोग करके किया गया। नियोवियस लट्स ने अधिक समरूप विरूपण को अधिक सेल परतों में समायोजित किया। ये प्रयोगात्मक अवलोकन और लट्स संरचना के सरल मॉडल का उपयोग नियोवियस और IWP शीट-आधारित लट्स संरचनाओं के कमरे के तापमान पर तणाव विरूपण के तंत्र की समझ को बढ़ा सकते हैं।