ब्लॉक कोपॉलिमर लिथोग्राफी में फीचर आकारों को नियंत्रित करने के लिए चक्रीय ब्लॉक कोपॉलिमर

ब्लॉक कोपॉलिमर लिथोग्राफी अगली पीढ़ी की तकनीक के रूप में संभावनाएँ रखती है ताकि सेमीकंडक्टर रोडमैप द्वारा निर्धारित 20 एनएम से कम फीचर आकारों को प्राप्त किया जा सके। जबकि आण्विक वजन और ब्लॉक असंगति परंपरागत रूप से फीचर आकार को नियंत्रित करने के लिए उपयोग की जाती रही है, इस अध्ययन से यह सिद्ध हुआ है कि मैक्रोमोलीक्यूलर आर्किटेक्चर भी डोमेन अंतराल को ट्यून करने के लिए एक शक्तिशाली उपकरण है। इस अवधारणा को प्रदर्शित करने के लिए, उच्च कुशल "क्लिक" युग्मन पर आधारित चक्रीय ब्लॉक पॉलिमर के लिए एक नई सिंथेटिक रणनीति विकसित की गई है, और चक्रीय पॉलीस्टाइरीन-ब्लॉक-पीईओ (cPS-b-PEO) की पतली फिल्म आत्म-समूहन को इसके संबंधित रेखीय एनालॉग्स के साथ तुलना की जाती है। चक्रीय प्रणाली के कम हाइड्रोडायनामिक त्रिज्याएँ संबंधित रेखीय पॉलीमर्स की तुलना में ~30% डोमेन स्पेसिंग में कमी का परिणाम देती हैं।