सर्कुलर आर्क टूलपाथ्स के साथ डिजाइन करना ताकि मेल्ट इलेक्ट्रो राइटिंग की जटिलता बढ़ सके

अवलोकन मेल्ट इलेक्ट्रो राइटिंग (MEW) एक additive manufacturing तकनीक है जो उच्च-रिज़ॉल्यूशन वस्तुओं का निर्माण करती है। वक्र और जटिल पैटर्न प्रिंट करने के लिए, हालाँकि, सटीक फ़ाइबर स्थानांतरण प्राप्त करने के लिए अतिरिक्त ध्यान और योजना की आवश्यकता होती है। इस संदर्भ में, जेट स्पीड, जिसे महत्वपूर्ण अनुवाद गति (CTS) द्वारा मापा जाता है, जटिल गैर-रेखीय पैटर्न को सटीक रूप से निर्देशित लिखने के लिए एक आवश्यक कारक है। जब जेट और अनुवाद गति मेल खाते हैं, तो हरित जेट प्रिंटिंग के गैर-रेखीय होने पर टूल पाथ का बेहतर अनुमान लगाता है। जैसा कि यहाँ प्रदर्शित किया गया है, पूरी मुद्रित संरचना धीरे-धीरे विकृत होती है जब जेट का समय बढ़ता है। MEW के साथ पहली बार, सर्कुलर आर्क टूलपाथ्स पर ध्यान केंद्रित किया गया है ताकि डिजाइन की जटिलता बढ़ सके, और इस बात के सबूत हैं कि रिज़ॉल्यूशन को CTS के नीचे थोड़ी प्रिंटिंग करके और भी बेहतर किया जा सकता है। ऐसे सर्कुलर आर्क टूलपाथ्स का उपयोग करते समय, फ़ाइबर दीवारों का अंदर की ओर झुकाव देखा जा सकता है और इसे माइक्रोस्केल परत स्थानांतरण के साथ सही किया जा सकता है, जो कि बुनाई-प्रकार डिज़ाइनों के आधार पर स्काफोल्ड्स के साथ प्रदर्शित किया गया है। CTS पर प्रिंटिंग के साथ सर्कुलर आर्क्स का संयोजन वक्र पैटर्न की निर्माण जटिलता को बढ़ाता है और MEW के डिजाइन और उपयोगिता के लिए निहितार्थ रखता है।