लेक मिशिगन तटरेखा के साथ NOx और VOC के प्रति ओजोन उत्पादन की संवेदनशीलता

सार हम enhanced ओजोन (O3) उत्पादन की संवेदनशीलता पर रिपोर्ट करते हैं, जो लेक मिशिगन के तटरेखा के साथ झील की हवा की परिक्रमा के दौरान देखी गई थी, नाइट्रोजन ऑक्साइड (NOx = NO + NO2) और वाष्पशील कार्बनिक यौगिकों (VOCs) के सांद्रण के प्रति। हम लेक मिशिगन ओजोन अध्ययन 2017 के दौरान एक उच्च O3 दिन पर NOx और VOC पर O3 उत्पादन की संवेदनशीलता का आकलन करते हैं, जो एक प्रेक्षणात्मक रूप से सीमित रासायनिक बॉक्स मॉडल का उपयोग करता है जो मास्टर केमिकल मैकेनिज्म (MCM v3.3.1) और NOx और VOC के हालिया उत्सर्जन सूची को लागू करता है। मास्टर केमिकल मैकेनिज्म मॉडल को ज़ायन, IL से एक ग्राउंड सुपरसाइट के पीछे की हवा के दिशा विश्लेषण के साथ जोड़ा गया है, जहां O3 पूर्ववर्ती और उनके ऑक्सीडेशन उत्पादों की व्यापक श्रृंखला के मापन किए गए हैं, जिसमें हाइड्रोजन पेरोक्साइड (H2O2), नाइट्रिक एसिड (HNO3), और कणीय नाइट्रेट्स (NO3−) मॉडल सीमाएं बनाते हैं। हम शिकागो-गैरी शहरी प्लम के रासायनिक विकास का मूल्यांकन करते हैं क्योंकि यह लेक मिशिगन पर आगे बढ़ता है और यह प्रदर्शित करते हैं कि VOC- बनाम NOx-संवेदनशील शासनों के मॉडल किए गए संकेतकों को ट्रैजेक्ट्री अंत बिंदु पर मापों द्वारा कैसे सीमित किया जा सकता है। हम इंस्टैटेनियस H2O2 और HNO3 उत्पादन दरों के मॉडल किए गए अनुपात (PH2O2 / PHNO3) का उपयोग करते हुए सुझाव देते हैं कि शहरी स्रोत क्षेत्र के ऊपर O3 उत्पादन बहुत अधिक VOC संवेदनशील है और इस दिन लेक मिशिगन तटरेखा के साथ उत्तर की ओर आगे बढ़ने पर एक अधिक NOx-संवेदनशील शासन की ओर बढ़ता है। हम यह भी प्रदर्शित करते हैं कि H2O2 और HNO3 के बीच के औसत सांद्रण अनुपात के ग्राउंड-आधारित मापन O3 उत्पादन की संवेदनशीलता का वर्णन करते हैं, VOC और NOx के साथ प्लम पथ के साथ रासायनिक उत्पादन का समाकलन।