らせん型ナノグラフェン（NG）は、特異なオプトエレクトロニクスおよびキロ光学特性により、キラルナノ材料の開発において重要な役割を果たします。ここでは、制御可能なヘリセンサブユニットの長さとπ延長を持つ前例のないアズレン埋め込み非対称三重らせんNG（1および2）の効率的な合成を報告します。結晶構造解析は、それらの高度にねじれた非対称の形状を確認しています。両化合物は、UV–Vis吸収およびサイクリックボルタンメトリー測定により決定された狭く調整可能な光エネルギーギャップ（1: 1.74 eV; 2: 1.63 eV）を示します。さらに、化合物1のエナンチオマーは、最大3.1 × 10–3のgabsを持つ顕著なキロ光学活性を示します。
Yang et al. (Fri,)はこの問題を研究しました。