吸収優先型かつ応力調整可能な電磁干渉シールドに向けた液体金属グリッドパターン薄膜デバイス

次世代のウェアラブルおよび小型化されたソフトエレクトロニクス向けに、高性能な薄膜状変形可能な電磁干渉（EMI）シールドデバイスの需要が高まっています。高度に反射する導電性材料はEMIを効果的にシールドできますが、剛性のためにデバイスの変形を妨げ、同時に二次的な電磁公害を生成します。本研究では、吸収優先のEMIシールド特性を持つ柔軟で伸縮性のあるEMIシールド薄膜デバイスを示します。デバイスは、エラストマー上のエアロゾル堆積された液体金属（LM）の優れた接着性を利用して製造された薄いエラストマー膜で隔てられたLM層とLMグリッドパターン層から構成されています。デバイスは高い電磁シールド効果（SE）を示します。