銅、青銅、真鍮表面に形成されるトリスアゾールによるパッシベーション層の理解

トリスアゾール（TTAH）は、特に有機媒体において銅合金の腐食防止剤として産業的に使用されています。本研究では、現実的な条件下で銅および銅合金上にTTAHによって形成される層の形態および化学を調査し、基材におけるスズまたは亜鉛の存在による影響に焦点を当てています。X線光電子分光法（XPS）、中エネルギーイオン散乱（MEIS）、走査透過電子顕微鏡（STEM）の組み合わせが使用されました。銅標本の表面に不均一な金属−有機層が形成されることが発見され、その形態はおそらくCuxTTAy複合体に囲まれた銅ナノ粒子の形をしています。この層は少なくとも30日間厚さが増加します。化学的には、この層内の銅種は最初は+2の酸化状態にありますが、TTAHに長時間曝露された後は主にCu(I)が観察されます。青銅サンプルでは、スズは表面層に分離することはないようです。真鍮サンプルでは、亜鉛が体積から減少し、より厚いZnxTTAy層を形成します。