母平均および分散の共同監視における感度向上のための適応ベイズアプローチ：Max-EWMA管理チャートを用いて

本記事では、ベイズMax-EWMA管理チャートの枠組み内における適応的アプローチを紹介します。様々なベイズ損失関数を用いて、正規分布プロセスの平均および分散からのプロセス偏差を共同で監視しました。本研究では、平均および分散の推定においてベイズMax-EWMAに組み込まれた自己調整重みを選定する関数ベースの適応手法のメカニズムを提案します。この適応メカニズムは、平均および分散の両方においてプロセスシフトを検出するMax-EWMAチャートの効果性と感度を大幅に向上させます。異なる組み合わせのランレングスプロファイルを計算するためにモンテカルロシミュレーション手法が使用されました。既存のチャートとの比較パフォーマンス分析がその効果を示します。半導体製造におけるハードベイクプロセスからの実例を示し、チャート設定とパフォーマンスの実践的な文脈を示します。実証結果は、アウト・オブ・コントロール信号を特定する上での適応ベイズMax-EWMA管理チャートの優れたパフォーマンスを示しています。プロセスの平均と分散を共同監視するチャートの能力、適応的特性、及びベイズフレームワークは、効果的かつ有用な管理チャートとなる要素です。