マイクロスフェア光リソグラフィのための二重空間光変調器による完全な光場制御

マイクロスフェア光リソグラフィ（MPL）は、自己集積した六角閉密充填マイクロスフェアを光学要素として使用し、フォトレジスト層内でフォトニックナノジェット（PNJ）を生成します。階層的パターン形成に必要な情報は、照明光場に埋め込まれています。本研究では、MPLにおける光場の精密制御を達成するために二重空間光変調器（SLM）システムが採用され、製造プロセスの柔軟性と効率を大幅に向上させることができます。前方フーリエ面に配置されたデジタルマイクロデバイス（DMD）を使用して、後焦点面での入射角（AOI）を制御します。中間像面には液晶（LC）デバイスが置かれ、局所的な照明強度を調整し、それが画像ステージに投影されます。DMDとSLMはそれぞれのマイクロスフェアが受け取る照明のAOIと強度をエンコードします。システムの解像度と制御プロセスが調査されます。この能力は、機能的な階層メタサーフェスを作成することで実証されます。