N-ヒドロキシフタリミドエステルから始まるラジカル反応のメカニズム

調製の容易さ、安定性、多様な反応性により、N-ヒドロキシフタリミド（NHPI）エステルはラジカル前駆体として多くの応用がされています。メカニズム的に、NHPIエステルは還元的脱炭酸断片化を経て、様々な変換に関与できる基質ラジカルを生成します。単一電子移動（SET）による還元は、熱的、光化学的、または電気化学的条件下で発生し、電子供与体の性質、ブレンステッド酸およびルイス酸の利用、さらには電荷移動複合体の形成の可能性など、様々な要因によって影響を受けることがあります。このような多様性は反応条件に影響を与える多くの機会を生み出し、反応性を制御するための多くのパラメータを提供します。この展望では、NHPIエステルを用いたラジカル反応の異なるメカニズムの概要を示し、ラジカル付加、環化、脱炭酸交差カップリング反応における最近の応用に重点を置いています。これらの反応クラスの中で、NHPIエステルの有用性について議論し、複雑性生成変換におけるその継続的な発展を目指します。