背景/目的：反復磁気刺激（rMS）は神経疾患の治療に用いられている。その調節効果を理解するには、in vitroでの細胞過程および分子経路の検討が必要である。本研究はプロトタイプrMS刺激装置を用いた細胞培養法を標準化し、腫瘍形成関連の細胞および分子パラメータを評価することを目的とした。材料と方法：2つの神経性腫瘍株SK-N-BE(2)およびSH-SY5Y、ならびに非神経性腫瘍株HOSに対し、活動的（75秒、150秒、300秒曝露）またはシャムrMSを毎日4日間（300mT-1Hz）適用した。細胞生存率、細胞死、BDNF、NGFおよびその受容体TRKB、TRKAの遺伝子発現を刺激直後（0時間）と24時間後に評価した。データはKruskal-Wallis/Dunn検定、1要因ANOVA/Bonferroni検定、またはt検定で解析した。結果：神経芽腫細胞株SH-SY5Y（150秒）およびSK-N-BE(2)（75秒）は治療直後に300秒群と比較して生存率が増加したが、刺激群とシャム群間の有意差はなかった。rMSは両神経芽腫株において、75秒および300秒群で刺激直後にBDNF、TRKB、NGF、TRKAの遺伝子発現を増加させた。24時間後には細胞株および刺激時間特異的に遺伝子発現の減少が観察された。調査した3細胞株のいずれもrMSにより細胞生存率に影響はなく、SK-N-BE(2)においても細胞死には影響しなかった。シャムまたは活動的rMSの24時間後、全群で刺激直後より細胞生存率が増加した。結論：本in vitroモデルではrMSは細胞生存率や細胞死に影響しなかった。75秒および300秒群では両神経芽腫株において刺激直後に神経栄養因子遺伝子発現が増加し、24時間後に減少した。これらのデータは露出時間および細胞株に特異的な分子的影響を示し、本特定in vitro rMSプロトタイプおよび刺激プロトコルの妥当性を裏付ける。
STIEVENら（Fri,）がこの課題を研究した。