遷移金属およびpブロック金属基板におけるカルシウムメッキをCa(BH₄)₂/THF電解質中で研究した。電気化学的測定および堆積後の分析により、電気化学的応答と堆積物の両方において基板間に明確な違いがあることが示された...
Monnens et al. (Thu,) はこの問題を研究した。