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我々は、中心にトポロジー荷qを持つパターン化された二重屈折液晶プレートから出現するベクトルビームの偏光トポロジーについて説明します。異なるq-プレートと異なる入力偏光状態に対する偏光トポロジー構造は、ビーム横断面内でステークスパラメータをポイントごとに測定することで実験的に研究されました。さらに、チューニングされたq=1/2-プレートを使用して、放射状または方位角偏光を持つ円柱状ベクトルビームを生成し、入力ビームの線形偏光を単純に変えることでこれら二つのケース間を動的に切り替える可能性があります。
Cardano et al. (Fri,) はこの問題を研究しました。