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変形材料は様々な分野で有望な応用がありますが、特定の構成のために自己形成プロセスをプログラムする方法は依然として課題です。本研究では、個々のドメインの屈曲を制御し、平面パターン化されたハイドロゲルの結果となる構成を調整するための多目的アプローチを示します。フォトリソグラフィーにより、高膨張ディスクゲルを非膨張ゲルシートに配置しました;膨張の不一致により、ディスクゲルの平面外屈曲が生じました。屈曲方向を局所的に制御するため、穴のあるマスクを使って穴の下の高膨張ゲルのサイト特異的な膨張を誘導し、厚さを通した一時的な勾配を作り、その後のマスク解除された膨張プロセス中に屈曲を方向付けました。したがって、異なるマスクを使ったプリスワリングステップによって、同一のパターン化されたハイドロゲルのさまざまな構成をプログラムすることができます。
Wang et al. (Fri,) はこの問題を研究しました。
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