空間的に解決されたレーザー書き込み/読み取り/消去によるグラフェンの共有結合2Dエンジニアリング

我々は、レーザー照射を介した単層グラフェンの共有結合2Dパターン化に関する容易で効率的な方法を報告する。ジベンゾイル過酸化物（DBPO）の光分解を利用し、その後の非活性化グラフェンへのラジカルの追加を最適化して、空間的に解決されたレーザー書き込みによって制御されたグラフェンの共有結合2Dパターン化が可能となるレベルまで到達した。走査ラマン顕微鏡（SRM）により監視されるグラフェンの共有結合2D機能化は完全に可逆的である。この新しいコンセプトにより、グラフェン表面に保存された共有化学情報の書き込み/読み取り/消去の制御が可能になる。