プラチナ上の酸化物膜の電解形成と溶解

滑らかなプラチナ電極の表面酸化の程度と電極容量は、各種のアノダイゼーション条件で測定されました。表面プラチナ酸化物の電解形成は、非常に不可逆的な反応であることが示されています。酸素進行反応のヒドロキシルラジカル中間体を含むメカニズムが、表面酸化物形成反応のために提案されています。このメカニズムは、プラチナ上の陽極および陰極充電曲線の形状と、電極電位、電極容量、表面酸化の程度の相互関係によって支持されています。これらの同じ相互関係から、酸素の定常状態の生成は、表面プラチナ原子1個あたり少なくとも1個の酸素原子を持つ表面で発生し、酸素進行反応での律速ステップは、電極表面に吸着された酸素を含むラジカルの電解放出であると結論づけられました。表面酸化物は、酸化物を形成するのに必要な電位の数百ミリボルト陰極側の電位で還元されます。表面酸化物の還元は一次反応であることが示されています。還元の速度は、ますます陰極的な電極電位とともに増加します。