インジェクションCVD法によって成長した炭素ナノチューブの窒素含有量とドーピング環境に対するNH3の温度および流量の影響

純NH3またはNH3とアルゴンの混合気体の下でフェロセンを触媒として用いたピリジンの熱分解によって、大規模で垂直に整列した窒素ドープ炭素ナノチューブが合成されました。窒素含有量は4.8 at. %から8.8 at. %の範囲で、成長温度およびNH3の流量に応じて変化します。NH3は炭素ナノチューブの窒素含有量を増加させるだけでなく、炭素ナノチューブ内のピリジン様Nドーピングの割合も増加させます。これは、窒素濃度および炭素ナノチューブの窒素ドーピング環境が成長温度やNH3の流量を変更することで制御できることを示唆しています。