tBuSiO(ReO4)4、シリケート表面上の金属酸化物のモデル化合物—安定なトリオールtBuSi(OH)3とRe2O7からの合成

シリコン原子にそれぞれ固定された4つのReO4ユニットが、シラントリオールtBuSi(OH)3とRe2O7からアクセス可能な可溶性金属含有シロキサン1に見つかる。このシラントリオールは縮合反応を経ず、高収率でtBuSiCl3から加水分解により調製可能である。化合物1のような化合物は、触媒活性を持つ遷移金属酸化物を備えたシリケート支持体のモデル化合物として興味深い。