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窒素中心ラジカルを介したスルホンアミドとのヘテロアレーンの直接酸化C-Hアミダーゼン反応が実現しました。窒素中心ラジカルは、可視光フォトレドックス触媒反応下でのN-H結合の酸化的切断から直接生成されます。アクセスが容易なスルホンアミドは調整可能な窒素源として使用され、酸化剤として漂白剤(塩素酸ナトリウム水溶液)が利用されます。インドール、ピロール、ベンゾフランなどのさまざまなヘテロアレーンが、高収率(最大92%)でこのアミダーゼン反応を行うことができます。これらの反応は非常に配向選択性が高く、すべての生成物は単一の配向体異構体として分離されます。
Tong et al. (火曜日) はこの問題を研究しました。