E. coliに対する局所強化電場治療：TEM、FT-IRおよびラマン分光法の研究

本論文では、TEM分析およびFT-IRとラマン分光法を通じて、E. coli細菌に対する低電圧局所強化電場治療（LEEFT）の研究を報告します。TEMにより孔の形成が確認され、膜の破裂と膜および細胞体積内の沈殿物の形成が示され、プロピジウムヨウ素染料のフォトルミネッセンススペクトルによっても確認されました。LEEFTは、DNAおよびRNA構造の変化を引き起こし、そのαヘリカルおよびβヘリカル形態の変化、核酸関連のIRおよびラマンピークの減少と狭窄によって示されています。膜の損傷は、低電圧曝露後の曖昧な特徴によって示されます：いくつかの膜脂肪酸のピークが広がる一方で、他は狭くなり、これはそれらの部分の分子結合の全体的な変化を示しており、内膜の収縮中の硬化および外膜の流動性の増加に起因する可能性があります。膜または周皮に位置するシトクロムcおよびboの対応するフィンガープリントは、ラマンスペクトルにおいて彼らの構造および部分における変化を反映しています。観察された変化は、細胞体積および膜内の密な沈殿物の形成、ならびに外膜からの細胞質膜の収縮を示すTEM画像により部分的に確認されました。