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我々は、干渉計的エンタングルメント濃縮スキームを使用したベル状態合成器を報告する。タイプIIの自発的パラメトリック下方変換からの初期の混合偏光状態は、干渉計的エンタングルメント濃縮の後にエンタングルされる。このベル状態合成器は、出力偏光状態がスペクトルフィルタリング、クリスタルの厚さ、そして最も重要なポンプ源の選択に影響されないという意味で普遍的である。また、環境の干渉に対しても頑健であり、部分的に混合された状態—部分的にエンタングルされた状態を容易に生成することもできる。
Kimら(金曜日)はこの問題を研究した。
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