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クロロフィル蛍光分析は、光合成過程に対するストレスの影響を研究するための最も強力で広く使用されている手法の一つです。最初の利用以来、Fv/Fm比は、ほとんどの植物種で最適値が0.81から0.83の範囲である、植物の光合成性能の敏感な指標として大いに使用されてきました。この値の減少は、光合成系II(PSII)の効率の低下、すなわち光抑制を示しています。過去20年間、クロロフィル蛍光の応用は大幅に改善され、多くの他の情報性パラメータがPSII光化学効率と代替散逸メカニズムへの光エネルギーの分配を検出するために確立されました(qE、エネルギー依存的消光;qZ、ゼアキサンチン依存的消光;qI、光抑制消光;qH、持続的な光保護アンテナ消光;qM、葉緑体運動依存の消光;qT、光合成複合体II-I状態遷移)等の、最近開発された「非光化学消光の光保護力(pNPQ)」のように。このレビューでは、主要なクロロフィル蛍光パラメータの簡潔な説明と、PSII光抑制のイベントを検出するために有用なさまざまなパラメータの使用に関する現在の文献の広範な分析を報告します。さらに、C3種とC4種の間の形態解剖学的、生理的、そして生化学的特性の本質的な違いを考慮し、ストレス条件下でのC3植物種とC4植物種の光抑制に関する可能性のある違いが提案されます。この試みは、光抑制に対する感受性に関する比較の限界を強調し、クロロフィル蛍光に支援される未来の研究の方向性を提案して、C3およびC4の非生物的ストレッサーへの感受性の違いに関する知識を向上させることを狙っています。
Guidi et al. (Thu,)がこの問題を研究しました。
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