キラルフォトニックメタマテリアルにおける理想的な非常に得意なワイル点

非常に得意なワイル点（WP）は、トポロジー的電荷2以上を持ち、通常の電荷1のWPとは異なる興味深い特性を持ち、ブリルアンゾーンの大部分にわたる複数のフェルミアークを含む。これまでのところ、このようなWPはキラル材料や音響メタマテリアルで観察されているが、光学的な分野において、非常に得意な光学WPが自明なバンドから分離されているクリーンな実証はなされていない。我々は、三次元トポロジカルキラルマイクロ波メタマテリアルにおいて、理想的な対称性で保護された光学的電荷2のWPを実験的に実現した。場マッピングを用いて、投影されたバルク分散を直接観察するとともに、サーフェスブリルアンゾーンを包む非収縮ループを形成する2つの長いサーフェスアークを観察した。サーフェス状態は、約22.7%の相対バンド幅の記録的に広い周波数ウィンドウをカバーしている。我々は、サーフェス状態が新しいトポロジカル自己集光特性を示し、無秩序に対して頑健であることを実証する。この研究は、非常に得意なWPの基本的な物理学と応用を探索するための理想的なフォトニックプラットフォームを提供する。