金属接着層によって誘導されるプラズモン減衰と非減衰代替としての分子リンカー

超薄型（∼2 nm）のチタン（Ti）接着層によって劇的な化学界面プラズモン減衰が誘導される。一方で、分子接着は、プラズモニック特性に大きな歪みを与えることなく、プラズモニックナノ構造のリソグラフィー製造に実施される。個々の金ナノロッドの共鳴散乱スペクトルの均一な線幅から判定されるように、超薄型のTi層はプラズモンのデコヒーレンス時間を著しく短縮し、プラズモンの散乱振幅を劇的に減少させる。減衰率の上昇とプラズモン振幅の減少は、Tiの散逸的な誘電関数及び金属-金属界面を横切る導電電子の転送による化学界面プラズモン減衰によるものである。加えて、予測を超えてTi接着層による著しい赤方偏移は、界面反応の優位性を示唆している。実験を導電的に結合されたリング-ロッドナノ構造にまで拡張することで、Ti層によって鋭いファーノ様共鳴の特徴がぼやけることが示される。一方で、（3-メルカプトプロピル）トリメトキシシランの蒸発堆積は、丁寧に清掃され活性化されたリソグラフィーパターンに施され、硫黄-金の化学結合によって金ナノ構造を表面にリンクさせるために、ガラス表面を十分に機能化し、観察可能なプラズモン減衰効果を伴わない。