π–πスタッキング対立体選択性制御における立体障害効果：syn‐1,2‐ジアリルプロピルアミンの高度なジアステレオ選択的合成

N-アリルライリデニルアミンは、2-(p-トルイールスルフィニル)トルエン（(S)-1および(S)-2）由来のスルフィニルベンジルカーバニオンと反応し、1,2-ジアリルエチルおよび1,2-ジアリルプロピルアミン誘導体のC1においてエピメリック混合物を生成する。スルフィニル基は、(S)-2の反応においてC2の配置を完全に制御する。C1の配置は、イミニック炭素原子に隣接する環の電子密度に依存し、これはカーバニオン中心に接続された環とのπ-πスタッキング相互作用によって調整される。立体選択性は、適切な置換基によりアリルリデニルアミン環の受容体特性を修飾することによって制御され、C1での非常に選択的な(R)配置の形成は電子供与群によって可能になる。N-(2,4,6-トリメトキシフェニル)アリルリデニルアミンは、(R)-1,2-ジアリルエチルおよび(1R,2S)-1,2-ジアリルプロピルアミン（synエピマー）の高度な立体選択的な合成のための適切な出発原料であることが示されている。