直接抽出源における負水素イオンの生成

この記事は負水素イオンの直接抽出源に関するレビューを示しています。昨年の間に高強度の負イオンビームを生成するこの方法への関心が20 mAを超える電流をもたらす新たな開発により大幅に高まっています。記事の第一部では、負イオンの創造または破壊を引き起こす粒子間の非弾性衝突について扱っています。このような基本的プロセスの知識は、抽出されたH−電流の強度が創造と破壊という競合するプロセス間の平衡によって主に決まるため重要です。数人の著者による放電プラズマ中でのH−イオンの生成を理論的に分析しようとする試みが後に説明され、それらの結果が実験と比較されます。次に、4種類の直接抽出源、すなわちデュオプラズマトロン、ハローディスチャージデュオプラズマトロン、ペニング源、マグネトロン源について説明します。それらの設計とビーム特性の詳細、および今後の改良に関する提案も示されます。