데이터 처리량을 향상시키기 위한 실리콘 포토닉스의 새로운 재료 필요성

지난 10년 동안, 실리콘 포토닉스는 빠르게 발전해왔습니다. 포토닉 집적 회로를 실현하기 위해 CMOS 산업의 표준 장비를 사용함으로써, 비용 효율적인 방법으로 제작을 확장하고, 복잡성을 높이며, 높은 수율에 도달할 수 있었습니다. 현재 전 세계 여러 주요 파운드리는 실리콘 포토닉스 플랫폼을 제공하고 있습니다. 그러나 그 기능을 완전히 활용하기 위해서는 새로운 재료의 도입이 필요할 수 있습니다. III-V 반도체는 효율적인 집적 레이저 소스를 실현하는 데 핵심적이며, 리튬 나이오베이트와 그래핀과 같은 성능이 더 높은 변조기 재료도 고려되고 있습니다. 이 발표에서는 이 분야의 최신 동향을 검토하고 향후 방향에 대해 논의하겠습니다.