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이온 빔은 높은 정확도와 구성 요소에 대한 손상이 적은 장점을 가지고 있어 광학 구성 요소의 형상화에 널리 사용되고 있습니다. 그러나 형상화 과정에서 고속으로 충돌하는 이온과 광학 구성 요소의 표면 간의 충돌은 광학 구성 요소의 온도를 빠르게 상승시킵니다. 이온 빔 형상화의 열 효과를 조사하기 위해, 스퍼터링의 시그문드 이론을 기반으로 열 침착 모델이 수립되었고 표면 열원에 대한 열 전력 밀도 함수가 얻어졌습니다. 이 기초上에서 BK7 유리를 연구 대상으로 삼아 몬테 카를로 방법을 사용하여 이온 빔의 다양한 입사각에서의 총 열 침착 전력을 얻었습니다. 그런 다음 유한 요소 방법을 사용하여 이온 빔 형상화의 열 효과를 시뮬레이션하였습니다. 결과는 침착 에너지, 최대 온도 및 최대 응력이 입사각의 증가에 따라 감소하며, 최대 응력은 고정 기구의 클램핑 위치에서 발생함을 보여줍니다. 해당 시뮬레이션 결과는 고정 기구와 비교할 때, 광학 구성 요소의 최대 응력을 탄성 기구를 사용함으로써 70% 이상 줄일 수 있음을 보여줍니다.
샤 외(2024)는 이 문제를 연구하였습니다.