다중 오믹 분석에서 염색 일치성을 평가하기 위한 강력한 지표

Key Points

• 본 연구의 목표는 암 데이터 세트에서 IHC와 mIF 염색의 일치성을 평가하기 위한 정량적 방법을 개발하는 것입니다.
• 4-플렉스 mIF 패널과 일치하는 IHC 섹션이 포함된 팬-암 데이터 세트를 활용했습니다.
• 전역 강체 및 비강체 변환을 사용하여 이미지를 함께 등록했습니다.
• 염색-매트릭스 기반 비가역 보간법으로 IHC 염색 채널을 분리했습니다.
• Otsu 임계값 처리와 형태학적 작업을 사용하여 조직 마스크를 생성했습니다.
• 통계 테스트를 사용하여 나누어진 이미지 타일 내에서 염색 일치성을 평가했습니다.
• mIF와 IHC 간의 일치성은 마커에 따라 달라지며, CD8이 가장 높은 일치를 보여주고 FoxP3가 가장 낮은 일치를 보입니다.
• 공간 분석 결과 염색에서 높은 일치성과 낮은 일치성 영역이 모두 나타났습니다.
• 정량적 결과는 전문가의 시각적 검토와 상관관계가 있었습니다.