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자외선(UV) 기계발광(ML) SrAl2O4:Ce (SAOCe) 및 SrAl2O4:Ce,Ho (SAOHoCe)를 포함하는 형광체에 대해 보고하였습니다. 결과는 ML 방출 대역이 375nm에 위치하며, 이는 광발광(PL) 피크와 유사하여 ML이 PL과 동일한 Ce3+ 이온 중심에서 방출됨을 나타냅니다. 또한, Ho3+의 추가는 SAOHoCe의 UV ML 강도를 상당히 증가시켜(56nJ∕loadcycle) SAOCe(0.21nJ∕loadcycle)보다 약 두 배의 차이를 보입니다. 많은 얕은 트랩(Ho3+−e−)의 형성이 이러한 증가에 기여했을 수 있습니다.
Zhang et al. (Mon,)이 이 질문을 연구하였습니다.