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비 이리듐 금속 기판에 전극 도금을 통해 형성된 이리듐 산화물 필름은 신경 자극 및 기록 전극을 위한 낮은 임피던스, 높은 전하 용량 코팅으로 활성 이리듐 산화물 필름(AIROF)과 비교된다. 전극 도금된 이리듐 산화물 필름(EIROF)은 IrCl4, 옥살산 및 K2CO3 용액에서 Au, Pt, PtIr 및 316 LVM 스테인리스 스틸 기판에 도금되었다. 50 mV/s의 속도로 0.0 V와 0.55 V(Ag AgCl에 대해) 한계 사이에서 50개의 전위 스위프가 포함된 도금 프로토콜이 적용된 후 동일한 한계 사이에서 전위 펄싱을 하여 25 mC/cm2 이상의 전하 저장 용량을 가진 접착성 필름이 생성되었다. 순환 전압법 및 임피던스 분광법에 의해 EIROF의 전기화학적 거동은 비 이리듐 기판과 AIROF에서 차이가 없음을 밝혀냈다. 산화물의 기계적 안정성은 증류수에서 초음파 세척 후 탈수 및 재수화를 통해 평가되었다. 전하 주입 하의 안정성은 200 마이크로초 동안 5.9 A/cm2 (1.2 mC/cm2) 음극 펄스를 사용하여 평가되었다. 이리듐 산화물의 전하 용량 손실은 AIROF와 EIROF의 경우 활성화 또는 도금 직후 용량의 1%에서 8% 사이에서 유사하였다. EIROF는 실리콘 마이크로 프로브 전극과 신경 기록 및 자극 용도로 개발 중인 금속화된 폴리이미드 전극에 도금 및 평가되었다.
Meyer et al. (Thu,)는 이 질문을 연구하였다.