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HF에 세척된 후 실온 공기에 노출된 연마된 실리콘 및 게르마늄 위의 산화물 필름의 두께 및 성장 동역학은 반사 편광광의 타원도를 측정하여 얻어졌다. 필름 성장은 엘로비치 방정식을 따른다. 공기 중 시간의 로그에 대한 두께 그래프는 약 15000초 후에 선형이며, 기울기는 6.5A/10년(Si) 및 8.1A/10년(Ge)이다. HF 세척 직후 필름 두께는 10-15A이며, 공기 중 하루 후 약 11-12A 두꺼워진다. 필름의 일부는 특정 유기 용액에서 용해된다. 필름 성장 동안 두 개의 입사각에서의 타원도 측정은 광학 이론의 실험적 검사를 제공했다. HF에서 헹군 후 실온 공기에서 연마된 Si 및 Ge에서 산화물 필름으로 추정되는 필름의 성장 속도가 반사된 편광광의 타원도를 측정하여 얻어졌다.
R. J. Archer (화요일)이 이 문제를 연구했다.