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실리카는 표면 화학이 많은 실용적인 맥락에서 중요한 역할을 하기 때문에 적외선 및 라만 분광학을 사용하여 자주 연구되어 왔다. 이러한 연구의 대부분은 고온 소성 후 진공에서 화학기상증착 필름을 이용하였다. 그러나 폴리머 및 계면활성제 흡착의 기판으로서 이러한 필름의 중요성에도 불구하고 얇은 실리카 입자 필름의 실온 수화 및 탈수는 잘 특성화되지 않았다. 현재 연구에서는 ATR-IR 분광학과 다양한 습도에 노출된 얇은 실리카 입자 필름을 이용하여 반경적 측정 없이 표면 실록산과 수소결합된 실라놀 사이의 가역적 변환을 명확히 보여주었다. 중수화된 실리카 필름에서의 해당 수화 실험으로부터 얻어진 IR 스펙트라가 진동 모드 분배를 확인하였다. pH가 다른 실리카 현탁액으로 형성된 실리카 필름에서의 습도의 변동은 실록사이드에서 실라놀 표면 군의 상대적인 인구 변화를 일치하는 IR 스펙트라를 제공하였다. 또한, 총 내부 반사 라만 분광학을 사용하여 실온 탈수의 추가 증거를 제공하였으며 argon 아래에서 필름이 탈수될 때의 삼원환 실록산 고리의 존재에 대한 스펙트럴 증거도 제공하였다. 실온 실록산-실라놀 전환의 확인은 많은 실리카 표면 화학 맥락에서 이해를 증진하는 데 기여할 것으로 기대된다.
Warring et al. (Sun,)은 이 질문을 연구하였다.