エリプソメトリーとフォトルミネッセンスによって研究された硬い非晶質炭素

プラズマ堆積された硬い非晶質炭素薄膜は、エリプソメトリーとフォトルミネッセンスにより研究されました。両方の技術は、透明な基板および不透明な基板上の薄膜の光学的特性評価に適しています。エリプソメトリーデータから、生成された状態および熱処理された薄膜のエネルギー範囲1.8–5.6 eVの複雑な誘電関数が導き出されました。フォトルミネッセンススペクトルでは、ピークエネルギーと放出強度の両方が増加（後者は4桁の増加）することがわかりました。これは、硬く強く架橋された薄膜から柔らかくポリマーのような層への移行時に観察されました。