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光電化学水分解のための新しいヘテロ接合 WO(3)/BiVO(4) 光陽極について報告します。ヘテロ接合フィルムは、フッ素ドープスズ酸化物 (FTO) コーティングガラス上に WO(3) ナノロッドアレイフィルムを溶媒熱沈着法で作成し、次にスピンコーティングによって低バンドギャップの 2.4 eV の可視光応答 BiVO(4) 層を沈着することで作成されます。このヘテロ接合構造は、光変換効率の向上と光腐食安定性の向上を提供します。平面 WO(3)/BiVO(4) ヘテロ接合フィルムと比較して、ナノロッドアレイフィルムは、私たちが考えるには、高い表面積と WO(3)/BiVO(4) 接合部での光生成した電荷の分離の改善により、光電化学特性が著しく向上しています。合成の詳細について議論し、フィルムの形態と構造は場放出型走査電子顕微鏡とX線回折によって特徴付けられます。
Su et al. (金曜日)はこの問題を研究しました。
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