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Experimentos foram realizados na aceleração por wakefield a laser no regime altamente não linear. Com potências de laser P2. 5 GeV, em campos que excedem 500 GV m^-1, com mais de 80 pC de carga em energias E>1 GeV. Simulações tridimensionais de partículas em células mostram que o uso de uma mancha excessiva retarda a injeção, evitando a perda do feixe à medida que o wakefield sofre oscilações de comprimento. Isso permite que os elétrons injetados permaneçam nas regiões de campos aceleradores mais altos e leva a um dobro da energia ganha em comparação com os resultados obtidos usando metade do comprimento focal com o mesmo laser.
Põder et al. (Sex,) estudaram essa questão.