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Este trabalho apresenta uma revisão sistemática dos estudos sobre descargas de pulverização catódica magnetron (MS) e suas utilidades para a deposição de filmes finos de óxido de revestimento transparente, como óxidos de estanho e índio (ITOs). Ele compila informações gerais sobre ciência do plasma, diagnósticos e química, e sua utilidade no controle do processo de plasma, crescimento de filmes e propriedades. Discute estudos sobre vários sistemas de MS e suas capacidades, além de relatar aspectos científicos como a formação de instabilidades e flares de plasma para entender os vários fenômenos de descarga. O estudo também discute diversas questões, progressos e desafios em filmes de ITO para aplicações industriais. Além disso, este trabalho destaca a importância dos parâmetros de plasma e do fluxo de energia no crescimento de filmes finos e nas propriedades dos filmes.
Nisha et al. (Wed,) estudaram essa questão.