Princípios básicos de modelagem de sputtering reativo

Este trabalho descreve uma série de princípios, que se mostram eficazes na modelagem de vários processos físicos e químicos. No artigo, um modelo de processo é definido como sua representação usando outro processo semelhante (ou idêntico) construído com base em uma série de suposições simplificadoras. Este modelo é chamado de fisicoquímico. Os principais fenômenos nas superfícies e no ambiente gasoso do sistema de sputtering, utilizados para a modelagem, são identificados. Um esquema para derivar um sistema de equações que descrevem o processo é apresentado. Um exemplo de modelagem baseado em uma reação química de superfície não isotérmica é descrito. Ele mostra a possibilidade de estudar experimentalmente dependências imensuráveis que caracterizam o processo de sputtering reativo. O artigo é direcionado principalmente a aspirantes a pesquisadores que se atreveram a tentar entender as características dos modelos de sputtering reativo propostos por diferentes autores.