Avanços em Materiais de Padronização para Litografia por Imersão de 193 nm

ANÚNCIO RETORNAR À EDIÇÃO ANTERIOR Revisão PRÓXIMA Avanços em Materiais de Padronização para Litografia por Imersão de 193 nm Daniel P. Sanders* Ver Informações do Autor IBM Almaden Research Center, 650 Harry Road, San Jose, Califórnia 95136 * Autor correspondente: email protegido Cite isto: Chem. Rev. 2010, 110, 1, 321–360 Data de Publicação (Web): 13 de janeiro de 2010 Histórico de Publicação Recebido 6 de julho de 2009 Publicado online 13 de janeiro de 2010 Publicado na edição de 13 de janeiro de 2010 https://pubs.acs.org/doi/10.1021/cr900244n https://doi.org/10.1021/cr900244n artigo de revisão ACS Publications Copyright © 2010 American Chemical Society Solicitar permissão de reuso Visualizações do Artigo 8708 Citações Altmetric 209 SAIBA MAIS SOBRE ESSAS MÉTRICAS Visualizações do Artigo são a soma conforme o COUNTER de downloads do texto completo desde novembro de 2008 (tanto PDF quanto HTML) entre todas as instituições e indivíduos. Essas métricas são atualizadas regularmente para refletir o uso até os últimos dias. Citações são o número de outros artigos que citam este artigo, calculado pela Crossref e atualizado diariamente. Encontre mais informações sobre contagens de citações da Crossref. O Altmetric Attention Score é uma medida quantitativa da atenção que um artigo de pesquisa recebeu online. Clicar no ícone de donut carregará uma página em altmetric.com com detalhes adicionais sobre a pontuação e a presença nas redes sociais para o artigo em questão. Encontre mais informações sobre o Altmetric Attention Score e como a pontuação é calculada. Compartilhar Adicionar para Ver Adicionar Texto Completo com Referência Adicionar Descrição Exportar Citação RISCitação Citação e resumo Citação e referências Mais Opções Compartilhar no Facebook Twitter Wechat LinkedIn Reddit Email Outras opções de acesso Receber e-Alerts fechar ASSUNTOS: Adições, Fluidos, Litografia, Materiais, Propriedades ópticas Receber e-Alerts